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真空镀膜关于薄膜均匀性的概念

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    温州市华宇真空电镀设备制造有限公司,是专业从事真空设备的生产、销售真空镀膜机和真空镀膜设备以及生产烘箱、流水线和烘道的生产企业。本公司从事真空镀膜机和真空镀膜设备设计生产,有着丰富的镀膜技术及设备的设计制造经验。是集设备生产与技术服务于一体的高科技企业。本司提供多种型号多弧,磁控,中频离子镀膜机,并可为客户量身订制专用型号真空镀膜设备并提供从设备制造、安装调试到生产工艺的一站式服务。

1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。   

2.化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。   

3.晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,具体见下。
 
 真空镀膜设备主要产品有:CDA-系列电弧(多弧)离子镀膜机,瓷砖镀膜多用CDA-C系列磁控溅射镀膜机,CDA-ZZ(ZZW)系列电阻蒸发镀膜机,CDA-P系列中频溅射镀膜机,CDA-ZC系列蒸发磁控复合功能镀膜机,CDA-X系列多功能真空溅射台(实验室或电子元件用),CDA-G系列电子束蒸发镀膜机CDA-D系列电子产品壳体镀膜机,CDA-CD系列磁控多弧复合镀膜机,CDA-S系列双门真空镀膜机(镀手机专用设备)CDA-SP系列真空电源     KT320型至KT1000型高真空油扩散泵,真空机组及真空阀门,真空标准件等产品,并承接直空非标准件的加工。及其它零部件的制造加工.真空压力浸渍设备:真空浸渍机主要运用在各种大、中、小型变压器、电感、镇流器、继电接触器、电机、马达、电子中周、调频器等电子件线圈的绝缘浸漆工艺。并适用于各类金属膜电容的树脂填充,电解电容及中、小型树脂工艺品的真空脱气工艺,其优点是渗透、填充、脱气均匀、彻底、时间短、操作简便安全、无污染。及各类塑胶PU原材料真空脱气工艺。华宇真空电镀设备愿意根据客户的要求设计制造各种符合客户需求的真空镀膜设备。我们不仅为客户提供核心的真空设备和技术支持,更为客户提供整体解决方案及快捷优质的售后服务。

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