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真空镀膜机的主要种类

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    真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。真空镀膜机对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。
       根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备,其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式,用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求,转动的速度范围及转动精度:普通可调及变频调速等。真空镀膜技术的发展与真空镀膜油的开发成功是密不可分的。从某种意义上。没有真空镀膜油就没有真空镀膜。这是由真空镀膜油的作用所决定的。在真空镀膜的过程中,真空镀膜机镀膜油起着牢固粘结镀件与金属膜的作用(即作为镀件的底涂层);真空镀膜后,须在镀件表面涂上一层镀膜油,这时该油又起着保护金属膜、染色等作用(即作为镀件的面涂层)。大部份材料在进行镀膜之前,都必须在镀件表面涂上一层薄薄的镀膜油,彻底干燥之后再行镀膜,否则,镀上的金属膜极易脱落,轻轻用手即可擦掉。真空镀膜过程中,镀膜质量的好坏很大程度上取决于底涂层的质量。
      通过真空镀膜技术的应用,使塑料表面金属化,将有机材料和无机材料结合起来,大大提高了它的物理、化学性能。其优点主要表现在改善美观,表面光滑,真空镀膜机金属光泽彩色化,装饰性大大提高;改善表面硬度,原塑胶表面比金属软而易受损害,通过真空镀膜,硬度及耐磨性大大增加;提高耐候性,一般塑料在室外老化很快,主要原因是紫外线照射所致,而镀铝后,铝对紫外线反射最强,因此,耐候性大大提高;减少吸水率,镀膜次数愈多,针孔愈少,吸水率降低,制品不易变形,提高耐热性;使塑料表面有导电性;容易清洗,不吸尘。化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。随后,1817年,Fraunhofe在德国用浓硫酸或硝酸侵蚀玻璃,偶然第一次获得减反射膜,1835年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜它们是最先在世界上制备的光学薄膜。后来,人们在化学溶液和蒸气中镀制各种光学薄膜。真空镀膜机表面处理:通常,镀膜之前,应对基材(镀件)进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料,如PE(聚乙烯)料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。
       底涂、面涂:喷涂施工时,可以采用自动喷涂,也可采用人工喷涂及浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。底涂烘干:烘干的目的是为了提高生产效率。通常烘干的温度为60-70℃,时间约2小时。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。

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