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GZD型高真空镀膜设备

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  主要用途

  高真空镀膜设备可采用电阻加热式蒸发源、电子束加热式蒸发源,感应加热式蒸发源。可以蒸发金属,金属氧化物和非金属氧化物,适用于电子工业、光学工业的导电膜、光学膜、滤光膜、装饰膜等,如电子器件、塑料制品、制镜等。

  主要组成

  设备由真空镀膜室、蒸发源、卡具、真空机组、蒸发电源、控制系统与辅助装置等组成。

  主要特点

  ★配有石英晶体或光学膜厚控制仪,可以实现膜厚镀膜自动控制,实现高精度的镀膜效果。

  ★配RF离子轰击装置达到净化基体表面的作用,使膜与基体表面附着力更好,提高膜层的强度。

  ★可同时蒸镀两种以上不同的蒸镀材料,可制成复合膜。

  ★操作简便、适应生产、科研的理想设备。

  ★具有过流、过压保护及断水、欠压保护及电气互锁的功能。
  目前已经形成真空镀膜设备、真空获得设备,真空浸渍及干燥设备、真空电炉设备、真空应用附件五大系列,500余个规格品种,来满足各界用户的需求。

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